Описание
Установка физического осаждения материалов из паровой фазы ВН-2000М (PCVD) разработана в соответствии с Техническим заданием заказчика и предназначена для осаждения (напыления, распыления) следующих материалов:
- диэлектрики SiO2, SiNx, SiOxNy;
- полупроводниковый материалы SiC, a-Si, VO2
Комплект поставки.
- Система регистрации вакуума
- Нагреватель держателя объектов
- Магнетроны
- Источник питания постоянного тока для магнетронов
- Система управления
- Кварцевый измеритель толщины напыленного слоя
- Источник питания переменного тока для магнетронов
- Система подачи рабочих газов, возможность подачи, одновременно, двух рабочих газов заданной пропорции: — газовые расходомеры; — емкость для предварительного смешивания подаваемых газов; — блок управления расходомерами; — индикатор вакуума с преобразователем (реализация точного контроля давления рабочих газов в рабочей зоне магнетронов)
- Система вакуумной откачки включает: — высоковакуумный насос Турбо PFEIFFER DN 250 1900 L/S; — форвакуумный насос; — высоковакуумный шибер.
- Затвор вакуумный (для дросселирования системы откачки с целью стабилизации давления и экономии рабочих газов).
- Насос предварительного вакуума
- Электрическая стойка для размещения источников питания и блоков управления включает: — блок питания турбомолекулярного насоса; — блок ВЧ-питания; — блок измерительный; — блок измерения вакууму; — панель включения системы охлаждения (чиллер или водяной насос, как дополнительная опция); — блок управления расходомерами (тип MKS или РРГ).
Технические характеристики.
1 Нагреватель держателя объектов — до 300 град. С
2 Магнетроны, диаметр мишени — 40 мм.
3 Систем вакуумной откачки включает: — высоковакуумный насос Турбо PFEIFFER DN 250 1900 L/S (Стандарт подключения: Внешний — DN 250 CF-F, Внутренний — DN 40 ISO-KF; Напуску G 1/8” ; Номинальная скорость вращения — 525 (31500) Гц (1/мин); скорость вращения в режиме ожидания — 350 (21000) Гц(1/мин); Шум 47 Дб; Остаточное давление (обратное давление) < 0.2 мбар; масса — 39 кг);
— форвакуумный насос производительностью, не менее, 8 л/сек,
— высоковакуумный шибер з проходным отверстием, не менее, Ду 100 и возможностью регулировки дросселированием в процессе напыления.
4 Насос предварительного вакуума — до 16л/с
