Приставка ионно-лучевого травления ИЛТ-8-200

Приставка ионно-лучевого травления ИЛТ-8-200 предназначена для осуществления операций,  связанных с распылением и травлением материалов в вакууме ион­ным пучком с целью  исследования полученных поверхностей и материалов (методами растровой и просвечиваю­щей электронной микроскопии и другими).

1 НАЗНАЧЕНИЕ

1.1 Приставка  предназначена для  установки  и эксплуатации на приборе вакуумном универсальном посте ВУП-5М (ВУП-5), ВН-2000, ВН-2000М и прочих вакуумных откачных постах и системах.

1.2 Приставка может быть использована в лабораториях  при исследованиях по физике твердого тела, микроэлектронике для получения новых материалов, а также применима при выполне­нии отдельных технологических операций.

2 ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ

2.1 Основные параметры и характеристики

2.1.1 Диапазон рабочего давления в объеме при работе приставки     от 6,0·10-5  до 8·10-4  мм. рт. ст.

2.1.2 Электрическое  питание  приставки осуществляется  от сети  переменного тока напряжением 220 В частотой 50 Гц.

2.1.3 Потребляемая мощность   не более 600 Вт.

2.1.4  Масса    60 кг.

2.1.5  Габаритные размеры, мм, не более:

рабочий объем       внутренний диаметр    –  230

высота                                                    —  250

высота с установленным

источником (сверху)                              – 500

модуль источников питания     длина      —  500

ширина   —  520

высота — 180

2.1.6 Внутренний объем  высоковакуумного  объема  приставки    12 л.

  • Максимальное напряжение на выходе высоковольтного блока питания анода не более 8 кВ.
  • Максимальное напряжение на выходе высоковольтного блока питания фокусирующего не более 8 кВ.
  • Напряжение блока питания разряда не менее 800В.
  • Разрядный ток ионных пушек (50 ± 3) мА.
  • Ионный ток на образце от 30 до 600 мкА.
  • Максимальное напряжение на пьезонатекатель 1450 В.

    Категория: Метки: , , , , , , , ,

    Описание

    Приставка ионно-лучевого травления ИЛТ-8-200 предназначена для осуществления операций,  связанных с распылением и травлением материалов в вакууме ион­ным пучком с целью  исследования полученных поверхностей и материалов (методами растровой и просвечиваю­щей электронной микроскопии и другими).

    1 НАЗНАЧЕНИЕ

    1.1 Приставка  предназначена для  установки  и эксплуатации на приборе вакуумном универсальном посте ВУП-5М (ВУП-5), ВН-2000, ВН-2000М и прочих вакуумных откачных постах и системах.

    1.2 Приставка может быть использована в лабораториях  при исследованиях по физике твердого тела, микроэлектронике для получения новых материалов, а также применима при выполне­нии отдельных технологических операций.

    2 ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ

    2.1 Основные параметры и характеристики

    2.1.1 Диапазон рабочего давления в объеме при работе приставки     от 6,0·10-5  до 8·10-4  мм. рт. ст.

    2.1.2 Электрическое  питание  приставки осуществляется  от сети  переменного тока напряжением 220 В частотой 50 Гц.

    2.1.3 Потребляемая мощность   не более 600 Вт.

    2.1.4  Масса    60 кг.

    2.1.5  Габаритные размеры, мм, не более:

    рабочий объем       внутренний диаметр    –  230

    высота                                                    —  250

    высота с установленным

    источником (сверху)                              – 500

    модуль источников питания     длина      —  500

    ширина   —  520

    высота — 180

    2.1.6 Внутренний объем  высоковакуумного  объема  приставки    12 л.

    • Максимальное напряжение на выходе высоковольтного блока питания анода не более 8 кВ.
    • Максимальное напряжение на выходе высоковольтного блока питания фокусирующего не более 8 кВ.
    • Напряжение блока питания разряда не менее 800В.
    • Разрядный ток ионных пушек (50 ± 3) мА.
    • Ионный ток на образце от 30 до 600 мкА.
    • Максимальное напряжение на пьезонатекатель 1450 В.

      Похожие товары