Вакуумный универсальный пост ВН-3000

Вакуумный универсальный пост ВН-3000 предназначен для исследовательских работ по распылению металлов, полупроводников и диэлектриков с помощью магнетрона RF и электронно-лучевого испарителя.

1.2 Область применения – приборы электронной техники, материаловедения, микроэлектроника, физика и другие отрасли, а также отработка отдельных технологических операций по напылению.

1.3 Установка может эксплуатироваться при температуре окружающего воздуха от 10 оС до 35 оС, относительной влажности не более 80 % и атмосферном давлении от 84 кПа до 106,7 кПа.

1.4 Электрическое питание установки должно осуществляется от трехфазной сети  380/220 вольт, частота  50 Гц.

Качество электрической энергии по ГОСТ 13109.

1.5 Потребляемая мощность установки не более 3,3 кВ×А.

 

2 ТЕХНИЧЕСКИЕ  ХАРАКТЕРИСТИКИ

2.1 Масса установки не более 420 кг.

2.2 Габаритные размеры установки:

  • стойка аналитическая 900мм х 610мм х 1620мм,
  • стойка электрическая 600мм х 600мм х 2160мм.

2.3 Установка обеспечивает предельное остаточное давление в рабочем объеме не более 2×10-3 Па.

2.4 Нагреватель в устройстве осаждения и нагрева обеспечивает температуру в районе подложки не менее 300 оС.

Время нагрева до температуры 300 оС не более 30 мин.

2.5 Устройство осаждения и нагрева обеспечивает частоту вращения подложки в диапазоне от 5 об/мин до 15 об/мин.

2.6 Напряжение на выходе блока питания высоковольтного (без нагрузки) регулируется от 0 кВ до (4,0±0,2) кВ.

2.14 Максимальный ток  пучка  электронно-лучевого испарителя – 200 мA.

2.15 Максимальный ток блока питания накала катода электронно-лучевого испарителя – 20 А.

2.9 Мощность блока питания магнетрона RF регулируется от 0 Вт до (500±50) Вт.

2.10 Максимальный ионный ток устройства ионного травления/очистки – 100 мA.

2.12 Установка обеспечивают откачку рабочего объема от атмосферного давления до давления 6,0×10-3 Па за время не более 45 мин.

2.13 Установка имеют систему индикации давления в рабочем объеме в диапазоне от 1,0×105 Па до 1,0×10-4 Па.

2.14 Средняя наработка на отказ установки не менее 1 000 ч.

Среднее время восстановления работоспособного состояния установки не более 6 ч.

Полный средний срок службы установки не менее 10 лет.

Полный средний ресурс должен быть не менее 16 000 ч.

2.15 Основные параметры, характеристики установоки  и результаты испытаний приведены в таблице 1.

Таблица 1

 

Наименование параметров По норма-тивной докумен-тации
1 2
1.Предельное остаточное давление, Па, не более:

2. Температура в районе подложки, оС не менее

 

3. Напряжение на выходе блока питания высоковольтного, кВ

 

4.Максимальный ток  пучка  электронно-лучевого  испарителя, мA

 

5. Мощность блока питания магнетрона RF, Вт

 

6. Максимальный ионный ток устройства ионного травления/очистка, мA

 

 

2×103

300

 

от 0

до (4,0±0,2)

 

200

 

 

от 0

до (500±50)

 

100

 

 

    Категория: Метка: , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , ,

    Описание

    Вакуумный универсальный пост ВН-3000 предназначен для исследовательских работ по распылению металлов, полупроводников и диэлектриков с помощью магнетрона RF и электронно-лучевого испарителя.

    1.2 Область применения – приборы электронной техники, материаловедения, микроэлектроника, физика и другие отрасли, а также отработка отдельных технологических операций по напылению.

    1.3 Установка может эксплуатироваться при температуре окружающего воздуха от 10 оС до 35 оС, относительной влажности не более 80 % и атмосферном давлении от 84 кПа до 106,7 кПа.

    1.4 Электрическое питание установки должно осуществляется от трехфазной сети  380/220 вольт, частота  50 Гц.

    Качество электрической энергии по ГОСТ 13109.

    1.5 Потребляемая мощность установки не более 3,3 кВ×А.

     

    2 ТЕХНИЧЕСКИЕ  ХАРАКТЕРИСТИКИ

    2.1 Масса установки не более 420 кг.

    2.2 Габаритные размеры установки:

    • стойка аналитическая 900мм х 610мм х 1620мм,
    • стойка электрическая 600мм х 600мм х 2160мм.

    2.3 Установка обеспечивает предельное остаточное давление в рабочем объеме не более 2×10-3 Па.

    2.4 Нагреватель в устройстве осаждения и нагрева обеспечивает температуру в районе подложки не менее 300 оС.

    Время нагрева до температуры 300 оС не более 30 мин.

    2.5 Устройство осаждения и нагрева обеспечивает частоту вращения подложки в диапазоне от 5 об/мин до 15 об/мин.

    2.6 Напряжение на выходе блока питания высоковольтного (без нагрузки) регулируется от 0 кВ до (4,0±0,2) кВ.

    2.14 Максимальный ток  пучка  электронно-лучевого испарителя – 200 мA.

    2.15 Максимальный ток блока питания накала катода электронно-лучевого испарителя – 20 А.

    2.9 Мощность блока питания магнетрона RF регулируется от 0 Вт до (500±50) Вт.

    2.10 Максимальный ионный ток устройства ионного травления/очистки – 100 мA.

    2.12 Установка обеспечивают откачку рабочего объема от атмосферного давления до давления 6,0×10-3 Па за время не более 45 мин.

    2.13 Установка имеют систему индикации давления в рабочем объеме в диапазоне от 1,0×105 Па до 1,0×10-4 Па.

    2.14 Средняя наработка на отказ установки не менее 1 000 ч.

    Среднее время восстановления работоспособного состояния установки не более 6 ч.

    Полный средний срок службы установки не менее 10 лет.

    Полный средний ресурс должен быть не менее 16 000 ч.

    2.15 Основные параметры, характеристики установоки  и результаты испытаний приведены в таблице 1.

    Таблица 1

     

    Наименование параметров По норма-тивной докумен-тации
    1 2
    1.Предельное остаточное давление, Па, не более:

    2. Температура в районе подложки, оС не менее

     

    3. Напряжение на выходе блока питания высоковольтного, кВ

     

    4.Максимальный ток  пучка  электронно-лучевого  испарителя, мA

     

    5. Мощность блока питания магнетрона RF, Вт

     

    6. Максимальный ионный ток устройства ионного травления/очистка, мA

     

     

    2×103

    300

     

    от 0

    до (4,0±0,2)

     

    200

     

     

    от 0

    до (500±50)

     

    100