Описание
Установка ВН-2000 (-08), как и ее аналог предыдущего ВН-2000, предназначена для получения вакуума в рабочем объеме, нанесения пленок в вакууме из проводящих, полупроводниковых и диэлектрических материалов методом магнетронного, резистивного и электронно — лучевогого распыления, а также для травления материалов в плазме (в зависимости от комплекта поставки).
Установка может быть применена для исследования в области физики, химии, биологии, медицине, материаловедении, микроэлектроники и других отраслях, а также отработки отдельных технологических операций по напылению.
Установки могут эксплуатироваться при температуре окружающего воздуха от 10 оС до 35 оС, относительной влажности не более 80 % и атмосферном давлении от 84 кПа до 106,7 кПа.
Электрическое питание установки должно соответствовать:
Напряжение, В 380/220;
Частота, Гц 50.
Качество электрической энергии по ГОСТ 13109.
Потребляемая мощность установки должна быть не более 3 кВ×А.
Автоматическая система управления вакуумной частью ВН-2000 (-08), возможность визуального контроля электрических параметров блоков на цифровом табло, новая элементная база и возможность использования большего числа дополнительных аксессуаров позволяет значительно облегчить работу пользователя и расширить функциональные возможности установки.
ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ И ХАРАКТЕРИСТИКИ
3.1 Масса установки не более 350 кГ.
3.2 Габаритные размеры установки:
- стойка аналитическая 470мм х 540мм х 1600мм,
- стойка электрическая 610мм х 630мм х 1670мм.
3.3 Установка обеспечивает предельное остаточное давление (в чистой и обезгаженной) рабочей камере 5·10-4 Па.
3.4 Нагреватель в устройстве напыления обеспечивает температуру в районе подложки не менее 300 оС.
Время нагрева до температуры 300 оС не более 30 мин.
3.5 Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя (без нагрузки) регулируется от 0,5 кВ до 4,0 кВ.
Предельное отклонение верхнего значения ± 0,3 кВ.
3.7 Напряжение блока питания магнетрона постоянного тока (без нагрузки) до 1 кВ.
3.8 Максимальный ток блока питания магнетрона постоянного тока — 300 мА.
3.9 Максимальный ионный ток устройства ионного травления — 100 мA.
3.10 Установка обеспечивают откачку рабочей камеры с атмосферного давления до давления 2,0×10 -3 Па за время не более 15 мин.
3.11 Ток пучка электронного испарителя регулируется от 0 мА до
200 мA.
3.12 Ток накала электронно-лучевого испарителя регулируется от 2 до 10А.
3.13 Ток источника резистивного испарителя 1 регулируется от 5 до 200А.
3.14 Ток источника резистивного испарителя 2 регулируется от 3 до 50А.
УСТРОЙСТВО И ПРИНЦИП РАБОТЫ УСТАНОВКИ
Установка выполнена в виде двух стоек — электрической и вакуумной. Стойки располагаются рядом и соединяются между собой питающими, силовыми и сигнальными кабелями.
В электрической стойке размещены:
— блок распределительный;
— блок питания высоковольтный;
— блок трансформаторов;
— блок управления;
— пульт управления;
— блок питания турбомолекулярного насоса БПТ-1000.
Сохраняется возможность размещения блоков питания всех дополнительных аксессуаров, представленных на сайте.
В вакуумной стойке расположена вакуумная система.
Кроме вакуумной системы в данной стойке расположены:
- рабочий объем
- система напуска газа в рабочий объем;
- система водяного охлаждения турбомолекулярного насоса.
В рабочий объем устанавливаются устройство для термического испарения и устройство осаждения пленок
Сохраняется возможность установки всего ассортимента дополнительных аксессуаров, представленных на сайте.
