Вакуумный универсальный пост ВН-2000М

Описание

1. НАЗНАЧЕНИЕ

1.1 Вакуумный  универсальный  пост  ВН-2000М предназначен для  получения  пленок  из  различных материалов  с  высокой производительностью  методом  методом термического испарения, магнетронного  распыления,  ионно-лучевого травления, а также  для  подготовки  объектов,  исследуемых  с  помощью электронного  микроскопа  или  других  аналитических  приборов.

Прибор может  быть  применен  для  исследований  в  области физики,  химии,  биологии,  медицины  и  других  областях нayки и  техники.

Прибор  предназначен  для  эксплуатации  в  стационарных лабораторных  условиях  при  температуре  окружающего  воздуха от 15 до  25 °С  и  относительной  влажности  не  более  80 % . Наличие  в  помещении  агрессивных  паров  недопустимо .

 

2  ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ

2.1 Технические  данные

2.1.1 Питание  прибора  осуществляется  от трехфазной  сети переменного  тока  напряжением  220/380 V,  частотой  50 Нz .

2.1.2 Масса  прибора, кg , не  более                                                          300

2.1.3 Габаритные  размеры,  mm,  не  более :

длина                                                                                                           540

ширина                                                                                                        910

высота                                                                                                       1550

2.1.4 Потребляемая  мощность  без  приставок, кVA,  не более  1,9.  Максимальная  потребляемая  мощность, к\/А,  не более                                  5.

2.2 Основные  параметры  и  характеристики

2.2.1 Остаточное  давление  в  чистом и обезгаженном высоковакуумном  объеме   3×10^-4  Pa.

2.2.2 Ток  накала  испарителей  200 А.

2.2.3 Температура  столика  для  нагрева  объектов 1100 °С.

2.2.4 Температура  столика  для  охлаждения  объектов, °С, минус  160 .

2.2.5 Напряжение  на  выходе  высоковольтного  выпрямителя 7 к V.

2.2.6 Максимальный  ток  тлеющего  разряда  47  m A.

2.2.7 Максимальное напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя источника питания магнетрона, кV,  не менее  0,9.

2.2.8 Максимальный ток магнетрона, mА, не менее 300.

2.2.9 Температура в районе подложки устройства для осаждения пленок не менее 300 °С. Время нагрева не бо­лее 30 min.

2.2.10 Время смены подложек не более 7 s , скорость вращения подложек не менее 0,5 s ^–1 .

2.2.11 Заслонка устройства смены подложек обеспечивает перекрытие потока испаряемого вещества от испарителя к подложкам .

2.2.12 Устройство дискретного испарения обеспечивает подачу на испаритель в процессе испарения измельченного вещества.

2.2.13 С помощью пультов управления обеспечивается вы­ход в рабочий режим вакуумной системы из холодного состояния и коммутация вакуумной системы во время работы.

3 СОСТАВ ИЗДЕЛИЯ

3.1 В полный комплект прибора входит:

3.1.1. Пост вакуумный универсальный ВН-2000М с устройствами и приставками:

1) вакуумный универсальный пост;

2) система предварительной вакуумной откачки;

3) система высоковакуумной откачки;

4) приставка для магнетронного распыления;

5) блок питания магнетрона;

6) устройство для термического испарения с резистивных испарителей;

7) устройство для испарения углей;

8) устройство  для  нагрева  столика  объектов;

9) устройство  для  поворота  и  наклона  объектов;

10) устройство  для приварки  катодов;

11) система  напуска  воздуха  в  РО;

12) автоматическая  система  напуска  газа;

13) система  защитных  экранов;

14) источники питания устройств;

15) блок управления;

16) выносной пульт управления

17) комплект запасных изделий и принадлежностей (ЗИП)

^* Не входит в комплект и поставляется дополнительно:

— приставка магнетронного распыления ПМР-50 ;

— источник питания магнетронов переменного тока МВ-0,5;

— источник питания магнетронов постоянного тока БПМ-03;

— приставка ионно-лучевого травления;

— кварцевый измеритель толщины напыляемого слоя.